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粕壁 善隆*; Chen, Y.*; 山本 春也; 吉川 正人; 藤野 豐*
e-Journal of Surface Science and Nanotechnology (Internet), 9, p.191 - 198, 2011/04
本研究では、TIARA施設のイオン導入型電子顕微鏡を用いて、窒素イオン注入法によるチタン窒化物の形成を行い、透過電子顕微鏡(TEM)及び電子エネルギー損失分光(ELLS)による結晶構造及び電子状態のその場観察を行うとともに、分子軌道計算による電子状態の理論解析を進め、原子レベルでのチタン窒化物の形成機構を調べた。窒素イオン注入時のチタン膜試料の温度を変えて実験観察を進めその解析を行った結果、イオン注入によってチタン膜中に導入される窒素の濃度やその電子構造が注入時の試料温度によって変化することがわかった。
寺岡 有殿; 井上 敬介*; 川上 泰典*; 平谷 篤也*
no journal, ,
本研究ではNi(111)表面を超音速酸素分子線を用いて酸化し、放射光光電子分光で表面酸化状態を観察した。超音速酸素分子線照射と放射光光電子分光(SR-XPS)観察を繰り返した。照射から測定の一連の実験は室温下で行った。放射光のエネルギーは680eVとした。Ni2pとO1sの内殻光電子スペクトルを測定した。各運動エネルギーごとに初期吸着曲線を測定した。酸素分子の入射エネルギーが0.6eVから2.0eVの領域では、初期吸着確率は変化せず、2.0eVを超えると急激に増加した。2.0eVに吸着反応のしきい値が存在することを見いだした。